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Imagem do Produto-630-3398

Microscópio, Laser microdissection system, Leica®, LMD6

Código de Artigo: (630-3398)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: Microscópio, Laser microdissection system, Leica®, LMD6
UOM: 1 * 1 SET
Imagem do Produto-630-3396

Microscópio, Digital, Leica® THUNDER imager assay package, Leica®

Código de Artigo: (630-3396)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: Microscópio, Digital, Leica® THUNDER imager assay package, Leica®
UOM: 1 * 1 SET
Imagem do Produto-630-3366

HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Distância de trabalho: 12 mm

Código de Artigo: (630-3366)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Distância de trabalho: 12 mm
UOM: 1 * 1 UN
Imagem do Produto-630-3368

HI PLAN EPI 5×/0,12 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 5×, Distância de trabalho: 11,7 mm

Código de Artigo: (630-3368)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN EPI 5×/0,12 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 5×, Distância de trabalho: 11,7 mm
UOM: 1 * 1 UN
Imagem do Produto-630-3367

HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Distância de trabalho: 1,15 mm

Código de Artigo: (630-3367)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Distância de trabalho: 1,15 mm
UOM: 1 * 1 UN
Imagem do Produto-630-3370

N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Distância de trabalho: 0,5 mm

Código de Artigo: (630-3370)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Distância de trabalho: 0,5 mm
UOM: 1 * 1 UN
Imagem do Produto-630-3369

N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distância de trabalho: 0,5 mm

Código de Artigo: (630-3369)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Distância de trabalho: 0,5 mm
UOM: 1 * 1 UN
Imagem do Produto-LEIM11506220

HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distância de trabalho: 0,09 mm

Código de Artigo: (LEIM11506220)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Distância de trabalho: 0,09 mm
UOM: 1 * 1 UN
Imagem do Produto-LEIM11506184

N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distância de trabalho: 0,26 mm

Código de Artigo: (LEIM11506184)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Distância de trabalho: 0,26 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11556036

N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distância de trabalho: 11,2 mm

Código de Artigo: (LEIM11556036)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Distância de trabalho: 11,2 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distância de trabalho: 12 mm

Código de Artigo: (LEIM11556061)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distância de trabalho: 12 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distância de trabalho: 12 mm

Código de Artigo: (LEIM11556511)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Distância de trabalho: 12 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11556065

HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distância de trabalho: 0,36 mm

Código de Artigo: (LEIM11556065)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Distância de trabalho: 0,36 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11556060

HI PLAN 4×/0,10 NA POL -/ 121; BF, POL, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distância de trabalho: 18 mm

Código de Artigo: (LEIM11556060)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN 4×/0,10 NA POL -/ 121; BF, POL, FLUO contrast; transmitted light, 4×, Distância de trabalho: 18 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11556071

HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distância de trabalho: 0,92 mm

Código de Artigo: (LEIM11556071)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Distância de trabalho: 0,92 mm
UOM: 1 * 1 unid.
Imagem do Produto-LEIM11506217

HC PLAN FL L 63×/0,70 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 63×, Distância de trabalho: 2,6 - 1,8 mm

Código de Artigo: (LEIM11506217)
Fornecedor: LEICA MICROSYSTEMS
Descrição: HC PLAN FL L 63×/0,70 NA CORR PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted, LMD light, 63×, Distância de trabalho: 2,6 - 1,8 mm
UOM: 1 * 1 unid.
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Este produto é sujeito a regulamentação especifica.
Em caso de encomenda, será contactado a solicitar documentação complementar necessária e/ou obrigatória (licença, autorização ou declaração de uso final) para a continuidade do pedido. Agradecemos a vossa compreensão
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